商品信息
基本参数
- 产地江苏
- 品牌
- 产品型号
- 产品操作
- 产品应用范围
- 产品材料等级
- 产品表面处理
- 品牌KOG
- 型号PECVD
- 工艺用途其他
- 传热方式其他
- 炉内气氛真空气氛
- 热工制度连续式炉
- 炉型结构管式炉
- 输送形式其他
- 控制形式工艺过程控制炉
- 主要用途工业电炉
- 产品认证CE
- 最大电压220V
- 提供加工定制否
- 功率2000W
产品简介：
产品详情：设备介绍：该设备用到射频将涵盖薄膜组成原子的气体电离，从而局部形成等离子体。等离子体具很强的化学活性，容易反应以在基板上沉积所需的膜。为了使化学反应能够在较低的温度下展开，等离子体的活性用以推动反应，因此nz@称之为等离子加强CVD（化学气相沉积）。 产品简介：该设备配有Plasma以实现等离子体加强。滑轨设计可以将试验所需的恒定高温直接推到运行过程中的样品上，从而使样品得到较快的升温速率，还可以提高高温。将管式炉直接推离样品，使样品直接暴露于室温环境中，可获得迅速的冷却速度，还可以装设氛围微调设备，可以可靠操纵反应室内的气压。百分比调节阀对于低压CVD十分简便实用，过程可重复性好。十分合适石墨烯发育过程。它也适用于需迅速上升和下降温度的CVD实验。 主要组成及特征： 该设备主要由管式加热炉炉体，真空系统，质子流供气系统，射频等离子体源，石英反应腔室等组成。 主要特点： 1.通过射频电源将石英真空室内的气体变成离子状况。 2.PECVD需比一般而言CVD更低的温度。 3.沉积膜的应力可以通过射频电源的频率来操纵。 4.PECVD比一般而言的CVD更高，执行化学气相沉积的速度更快，更均匀，一致性和稳定性更高。 5.普遍用以各种薄膜的生长，例如：SiOx，SiNx，SiOxNy和无定型硅（a-Si：h）等。